
2026-07-30
Разработка и производство интегральных схем уже давно перешло от крупномасштабных к сверхмасштабным.С развитием науки и техники объем запоминающего устройства может превысить 10 триллионов байт на квадратный сантиметр.При такой высокой плотности производства, даже если диаметр частиц пыли, попадающих на производственную линию, составляет всего одну тысячную волосяного покрова, их воздействие, несомненно, эквивалентно падению камня на рельсы скоростного поезда, что нанесет смертельный удар по качеству полупроводниковых изделий.Эту проблему может решить система очистки помещений сверхвысокой чистоты. Нам удалось успешно отфильтровать частицы размером 0,1 мкм и заполнить пробел в прибрежных районах, где невозможно строительство предприятий по производству полупроводников из-за высокого содержания соли в воздухе.Однако будущие тенденции развития индустрии микроэлектроники предъявляют к нам более высокие требования. Наш долг - наращивать усилия в области исследований и разработок и создавать более эффективные чистые помещения, чтобы адаптироваться к ним.